俄罗斯电子束光刻机（e-beam lithography）的当前现状如下（截至2026年下半年） 主要进展 泽列诺格勒纳米技术中心（ЗНТЦ / ZNTC）已开发出电子束光刻装置，项目代号为Прогресс ЭЛЛ 150（Progress EBL 150） 设计工艺节点：150 nm 状态：已制成两台样机 时间节点：2026年6–7月通过
俄罗斯电子束光刻机（e-beam lithography）的当前现状如下（截至2026年下半年）
主要进展
泽列诺格勒纳米技术中心（ЗНТЦ / ZNTC）已开发出电子束光刻装置，项目代号为Прогресс ЭЛЛ 150（Progress EBL 150）
设计工艺节点：150 nm
状态：已制成两台样机
时间节点：2026年6–7月通过
