俄罗斯电子束光刻机（e-beam lithography）的当前现状如下（截至2026年下半年）

主要进展

泽列诺格勒纳米技术中心（ЗНТЦ / ZNTC）已开发出电子束光刻装置，项目代号为Прогресс ЭЛЛ 150（Progress EBL 150）

设计工艺节点：150 nm

状态：已制成两台样机

时间节点：2026年6–7月通过招标运输文件公开信息；截至7月，两台样机正在进行综合测试（预计持续约4个月）。测试结束后将进行成像精度及其他工艺参数的进一步验证

运输：其中一台样机计划从泽列诺格勒运往约2000公里外的地点（目的地未公开，可能为客户或测试场地）。

技术特点与用途

这是无掩模（maskless）电子束光刻机：

通过受控聚焦电子束直接在涂有电子束胶的硅片或其他基底上“绘制”图形也可用于制造光掩模版（photomasks）

无需传统光刻中的昂贵掩模版，因此特别适合：

小批量/样片生产原型验证特殊/保密微电路开发科研与快速迭代与光学光刻（stepper/scanner）相比，电子束光刻灵活性高、改版成本低，但写入速度慢，不适合大规模量产

整体背景

电子束装置是ZNTC在光学光刻之外的并行配套能力：

350 nm步进式光刻机（“Прогресс СТП-350”）已进入系列化，计划2026年12月交付首台

130 nm光学光刻机样机已完成关键研发阶段，正在测试中

电子束光刻机作为无掩模工具，弥补了光学光刻在小批量、保密及掩模制作环节的短板，形成相对完整的本土化生态

目前仍处于工艺验证阶段。这是俄罗斯在制裁环境下推进微电子设备本土化的组成部分，重点服务于小批量、高价值及特殊用途场景，而非追赶最先进量产节点

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