五道坎的最后一坎,今天单独深挖:光刻机整机。
先说结论:国产先进 DUV 光刻机,真的造出来了,而且已经进厂测试。
这台机器的来头有点意思:统筹它的是华为,主研是宇量昇(新凯来分拆出来的)和上海微电子。目前已经在中芯国际和华为自己的产线测试。
进度:28nm 制程能用,还能靠多重曝光往上做 7nm 级芯片。今年计划再生产 12 台。
但先别欢呼,坎还在:
最核心的投影镜头,仍然要靠蔡司供货——跟 ASML 用的一样。
量产线上,大厂囤的 ASML 机器还够用三年(长鑫、长存的库存策略)。
所以现在的局面是两条腿:一条用 ASML 保量产,一条用国产机抢验证。前者保命,后者保未来。
这台机器的意义不在"马上替代",在"从 0 到 1 走通了"——光刻机这行,最难的就是第一台。
评论区肯定有人说"镜头都靠买,算什么突破",也有人说"第一台就是突破"。数据都摆在这,自己判断。
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