当下半导体和算力领域发展迅猛，其中有几个高景气的新材料细分赛道值得关注。
首先是光刻胶，它可是半导体光刻工艺的关键材料。在芯片制造中，光刻胶能把光刻掩膜版上的图形精确复制到硅片上。
其次是湿电子化学品，用于芯片制造过程中的清洗、蚀刻等步骤。国内的江微、晶瑞电等企业在这方面已有一定的技术积累和市场份额。
再者是电特气，是集成电路、显示面板等领域不可或缺的基础原材料。在芯片制造里能用于刻蚀、掺杂等工艺。国外的空化工、林德等是行业巨头，国内的金宏、华特也在不断发展。
最后是靶材，在半导体领域，靶材是制备电子薄膜的关键材料。在芯片制造中，用于物理气相沉积工艺，以形成金属布线等结构。国内的江丰、有研在靶材市场表现不错。
