成本砍掉九成！日本封锁二十年的纳米压印机，中国自己造出来了！

日本手握纳米压印核心技术二十年， 执行严格出口禁令，一台商用设备都未对华出售。封锁多年之下，国内直接开辟全新赛道自主突围。

这款定名PL-AS的设备，是国内首台适配光芯片量产的专业纳米压印设备， 并非实验室试验样机，目前8英寸晶圆已经完成全流程量产核验，可直接规模化投产使用。

这台机器厉害在哪？它造芯片不再依赖光刻了，改用“盖章”。

先说说传统光刻机是怎么干的。用光束在晶圆上画图形，好比拿一根极细的笔，一笔一笔地描。不管是DUV还是EUV，原理上都跑不出“投影”这个范畴。这套技术被ASML等几家巨头垄断了几十年。一台机器要价几千万美元，里面零部件超过十万个，耗电量大、维护成本高。更要命的是，要不要卖给你，得看人家的心情。

纳米压印不一样。它不投影、不曝光，原理就跟盖章一样。先把芯片线路的图形刻在一个“模子”上，然后往晶圆上一按，图形就印上去了。不需要繁复的光学系统，也不需要极紫外光源。结构一简单，成本自然就跟着往下走了。

根据璞璘科技对外披露的数据，使用真空气压式纳米压印这条技术路线，芯片的生产成本大概只相当于传统DUV方案的十分之一。这是什么概念？过去因为太贵而不敢大规模量产的光芯片，现在可以甩开膀子干。

这台设备用的正是真空气压技术。一整片8英寸的晶圆，压力均匀性的偏差能控制在0.5%以内，最小线宽可以做到10纳米——这几个指标，已经不比日本佳能目前在售的商用机型差到哪里去了。

不光造出来了，走的还是另一条技术路线。佳能采用的是步进式方案，一小块一小块地往下压，精度够但速度提不起来；璞璘科技自己研发了真空气压方案，一次性压完整片晶圆，效率明显高出不少。

其实在PL-AS亮相之前，这家公司就已经露过一次面了。时间倒回2025年8月，璞璘科技当时交付了国内头一台半导体级步进式纳米压印设备，那一步解决的核心问题是“有还是没有”。这次PL-AS直奔量产线而去，解决的是“顶不顶用、好不好使”的问题。

力策科技把设备拿到手后，已经在三个方向上跑通了量产验证——激光雷达用的OPA芯片、光通信领域的传感芯片，还有硅光晶圆。这几个都是当下最火热的赛道。

回过头想想，三年多前，日本光刻胶巨头JSR的CEO撂过一句话：“就算中国人拿到一份化学成分的详细论文，也造不出EUV。可到了今天呢？今年1月份，《日经亚洲》的口风已经转了——他们不得不承认，中国有很大希望成为继荷兰和日本之后，全球第三个能够独立搞定全套光刻机技术的国家。

二十年不给一台，中国人就自己造一台。你要掐我的脖子，我就自己把脖子上的手掰开。

你怎么看，这种“换条路走”的方式能把光芯片的价格打下来吗？评论区聊聊。

信源：中国电子工程专辑、国际半导体产业协会等官方媒体于2026年6月5日至8日关于“纳米压印光刻机”的相关报道。