为啥过去的“600“系列曾有ArF（氟化氩）干式光刻机，但如今最新的“800”系列，却低调到，只有KrF（氟化氪）干式光刻机，不见波长更短的ArF（氟化氩）了呢？

龙科多认为，ArF（氟化氩）的干式光刻机，是非常关键的一步。当年的ASML，其技术跃升就是从ArF（氟化氩）的干式光刻机到浸没式的，也就是达到DUV的技术顶峰，单次曝光能直接拉到28nm；而日系的两家，就是卡在了从干式ArF（氟化氩）到浸没式的关键节点。

那么，问题来了，上海微后续多久才会，一步步公开信息，带给大家惊喜呢？龙科多认为，到了合适的时机，国产28nm大机器自主化的消息自然会公布，我们在吃瓜的同时，要尽量做到不传谣、不添麻烦。技术上看，ArF（氟化氩）技术有两个关键点，一是采用新的光源，二是与代工厂要密切配合，需要代工厂的浸没式工艺也能够同步支撑。