中国人自己造的极紫外光（EUV）光刻机还有多久？刚刚出现两个新的预测：
¹ 瑞银刚发布报告，说可能“未来10年内都仍难以研发出可替代ASML设备的国产EUV技术。”
² 蔡司，ASML主要供货商，半导体部门负责人Frank Rohmund，说“中国可能还需要15年研发出EUV光刻机”。“合理的估计”，实际进展难量化。
³ 国内一批人说永远、绝无可能。
⁴ 瑞银还预测，未来三五年内中国就会大规模生产DUV光刻机。今年7月已报道“上海一家企业”已开始制造浸没式DUV光刻机。谁对谁错，未来10-15年就可以验证一下。科学人医疗社会史
